當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 等離子清洗機 > 等離子去膠機
半導體等離子去膠機通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、自由活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)進行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì),從而優(yōu)化材料表面性能,實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。
半導體等離子去膠機通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、自由活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)進行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì),從而優(yōu)化材料表面性能,實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。
等離子除膠機通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、自由活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)進行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì),從而優(yōu)化材料表面性能,實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。