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在半導體制造過程中,光刻膠的去除是關(guān)鍵步驟之一。等離子去膠技術(shù)因其高效、環(huán)保和精確性被廣泛應用于這一過程。然而為了進一步提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,優(yōu)化半導體等離子去膠機的去膠效率顯得尤為重要。1、優(yōu)化工藝參數(shù)等離子去膠的效率與多種工藝參數(shù)密切相關(guān),包括射頻功率、反應室壓力、氣體流量和類型、處理時間等。通過實驗優(yōu)化這些參數(shù),可以找到適合特定光刻膠材料的去膠條件。例如:(1)射頻功率:適當增加射頻功率可以提高等離子體密度,從而增強去膠效果。但過高的功率可能導致材料損傷或過度刻蝕。(...
9-24
隨著科技的不斷進步,各種高新技術(shù)設(shè)備逐漸走進了我們的生活和生產(chǎn)。其中寬幅等離子清洗機作為一種高效、環(huán)保的表面處理設(shè)備,正受到越來越多行業(yè)的關(guān)注和應用。寬幅等離子清洗機是一種利用等離子體進行表面處理的設(shè)備。其工作原理是通過高頻電源激發(fā)氣體分子,使其電離成等離子態(tài)。這些高能量的等離子體能夠有效去除材料表面的有機污染物、氧化物和其他雜質(zhì),同時對材料表面進行改性,提高其附著力和潤濕性。相比傳統(tǒng)的化學清洗方法,等離子清洗具有無污染、高效率、低成本等優(yōu)點。寬幅等離子清洗機采用干式清洗方式...
7-30
在當今的制造業(yè)中,清洗工藝的創(chuàng)新和環(huán)保要求越來越受到重視。等離子除膠機和傳統(tǒng)清洗方法之間的“對決”,不僅關(guān)乎效率與成本,還涉及到環(huán)境保護和可持續(xù)發(fā)展。一、等離子除膠機的優(yōu)勢:1、高效清潔:等離子除膠機使用高能等離子體,可以快速去除表面污染物,包括頑固的膠合劑殘留,而不需要使用化學試劑。2、環(huán)保:由于避免了有害化學物質(zhì)的使用,等離子除膠機對環(huán)境的影響大大減少,是一種更加綠色的清洗方式。3、精密清洗:等離子體可以針對性地清除微小區(qū)域的污染物,不會像化學清洗那樣可能損害周圍的材料。...
3-13
選擇真空等離子清洗機時,應該考慮的因素有什么?1.腔體容量:您需要根據(jù)工件的尺寸來選擇適合的腔體大小。確保所選設(shè)備的腔體能容納下您的工件,這是基本的要求。如果工件較大或者需要批量處理,那么應選擇一個具有較大腔體容量的設(shè)備。2.頻率選擇:等離子清洗機的頻率通常有很多種等。不同的頻率適用于不同的清洗對象和要求,因此需要根據(jù)您的具體應用來選擇合適的頻率。3.清洗效果:選擇一個清洗效果好且穩(wěn)定的品牌。您可以通過網(wǎng)絡(luò)搜索、詢問行業(yè)內(nèi)的其他用戶或向供應商索取相關(guān)的測試報告來評估不同設(shè)備的...
12-28
在微電子行業(yè)中,對制程的潔凈度要求很高。即使是微小的污染也可能導致產(chǎn)品性能下降,甚至失效。因此,在生產(chǎn)過程中,如何有效地清除表面的各種污染物,特別是有機物和金屬離子,一直是行業(yè)的重要課題。在這個背景下,Plasma清洗機應運而生,并在微電子行業(yè)中得到了廣泛的應用。Plasma清洗機是一種利用等離子體進行表面清洗的設(shè)備。等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),由高能電子和離子組成,具有高溫、高能量的特點。在Plasma清洗過程中,等離子體對材料表面進行轟擊,將表面的有機物和金屬離子剝離,從而達...
12-11
隨著科學技術(shù)的不斷發(fā)展,納米科技已經(jīng)成為了當今世界科技發(fā)展的前沿領(lǐng)域。納米科技是指在納米尺度(1-100納米)上進行科學研究和技術(shù)開發(fā)的一門新興學科。在這個尺度上,物質(zhì)的性質(zhì)會發(fā)生顯著的變化,從而為人類創(chuàng)造出許多新技術(shù)和新功能。在這個過程中,SDC-200S科研級接觸角測量儀作為一種重要的實驗工具,發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。接觸角測量儀是一種用于測量液體與固體表面之間接觸角的儀器,它可以直觀地反映出液體在固體表面的潤濕性、粘附性和擴散性等性質(zhì)。在納米科技領(lǐng)域,SDC-200S科研...
11-30
隨著微電子制造技術(shù)的不斷發(fā)展,對生產(chǎn)過程中的清潔度要求越來越高。在微電子制造過程中,膠體的去除是一個關(guān)鍵環(huán)節(jié),因為膠體的存在會影響產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。傳統(tǒng)的膠體去除方法主要包括溶劑清洗、機械摩擦和超聲波清洗等,但這些方法存在一定的局限性,如清洗效果不理想、對環(huán)境造成污染、耗時較長等。為了解決這些問題,等離子除膠技術(shù)應運而生,并在微電子制造領(lǐng)域得到了廣泛的應用研究。等離子除膠機是利用等離子體對材料表面的化學反應來實現(xiàn)膠體的去除。等離子體是一種由高能電子、正負離子和中性粒子組成的氣...
11-27
在科學研究中,對物質(zhì)表面性質(zhì)的研究是一項重要的任務。接觸角是描述液體與固體表面接觸情況的重要參數(shù),對于理解潤濕性、附著力、表面能等物質(zhì)表面性質(zhì)具有重要意義。因此對接觸角的準確測量是科研工作中的一項重要任務。為此科研級接觸角測量儀應運而生??蒲屑壗佑|角測量儀是一種專門用于測量液體與固體接觸角的高精度儀器。它采用先進的光學成像技術(shù),通過對液滴在固體表面上形成的圖像進行分析,可以準確地計算出接觸角的大小。這種儀器具有操作簡便、測量精度高、重復性好等優(yōu)點,是科研工作中重要的工具。1、...
11-13
隨著科技的不斷發(fā)展,LED(發(fā)光二極管)已經(jīng)成為我們?nèi)粘I钪兄匾囊徊糠帧o論是手機、電腦還是各種照明設(shè)備,都離不開LED的支持。而LED的性能和質(zhì)量,直接決定了這些設(shè)備的使用效果和壽命。因此,LED的制造過程顯得尤為重要。在這個過程中,SPA-5800等離子去膠機的應用就顯得尤為關(guān)鍵。SPA-5800等離子去膠機是一種用于去除材料表面有機污染物的設(shè)備,它通過等離子體技術(shù),將有機污染物轉(zhuǎn)化為無害的物質(zhì),從而達到去膠的目的。這個設(shè)備在LED制造過程中起著至關(guān)重要的作用。1、可...
10-8
隨著半導體技術(shù)的不斷發(fā)展,對于半導體芯片制造過程中高純度、無污染的要求越來越高。而半導體等離子去膠機作為一種先進的半導體器件清潔技術(shù),正逐漸成為半導體行業(yè)中提高制造效率、改善產(chǎn)品品質(zhì)的重要工具。廣泛應用于電子、半導體、醫(yī)療器械、汽車、航空航天等領(lǐng)域。它利用等離子體產(chǎn)生的高能量粒子轟擊待清洗物的表面,從而實現(xiàn)對表面的清潔、活化和改性。等離子清洗機的工作原理主要基于等離子體的產(chǎn)生和作用。等離子體是一種由帶電粒子(離子和電子)組成的氣體,其密度、溫度和成分高度依賴于處理條件。在等離...
10-8
寬幅等離子清洗機是一種新型的材料表面改性設(shè)備,可以方便地去除無形材料表面的有機物和無機物,同時活化材料表面,增強浸潤效果,提高材料的表面能、附著力和親水性。等離子表面處理技術(shù)可以和多種不同的后續(xù)加工工藝相配合,其中典型的后續(xù)加工包括印刷,粘接,涂裝。一、寬幅等離子清洗機基本原理在清理過程中,工作氣體在磁場作用下引起的等離子體和物體表層發(fā)生物理學和化學變化。物理反應原理是活性粒子撞擊待清洗表層,使污染物脫離表層,污染物排出?;瘜W變化原理是各種活性粒子與污染物反應,形成揮發(fā)物化學...